多腔室新型高k金属栅ALD生长系统采购国际招标公告(1)
招标公告 多腔室新型高k金属栅ALD生长系统采购国际招标公告(1)
更新时间 2023-03-01
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上海市   图片,教学研究
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多腔室新型高*金属栅***生长系统采购*套

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不用发票(备注:专票资质可以报普票要求)
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无特殊要求
经营地址:
无特殊要求

商务条款

投标要求:
收获地:
&**;上海
交货期:
*天

详细说明

*、招标条件项目概况:本项目为多腔室新型高*金属栅***生长系统采购进行公开采购。本次招标要求卖方提供成熟产品,有丰富的设计、生产、安装调试、用户培训经验以及提供良好的售后技术支持,用于教学研究等。资金到位或资金来源落实情况:已落实项目已具备招标条件的说明:已具备*、招标内容招标项目编号:****-************招标项目名称:多腔室新型高*金属栅***生长系统采购项目实施地点:中国上海市招标产品列表(主要设备):
序号 产品名称 数量 简要技术规格 备注
* 多腔室新型高*金属栅***生长系统采购 *套 *、总体配置要求: **、设备适用于最大*英寸晶圆。 **、设备配置构成: (*)*个热原子层沉积*-***反应腔模块、主要沉积氧化物; (*)*个等离子增强原子层沉积*****反应腔模块、主要沉积氧化物和氮氧化物; (*)*个等离子增强原子层沉积*****反应腔模块、主要沉积氮化物和金属; (*)*个*端口的转接腔模块、带机械手; (*)*个手动预真空室、用于手动送片 *、技术指标要求: (*)热原子层沉积*-***反应腔模块:沉积氧化铝、氧化铪、氧化锆等氧化物薄膜。 *、反应腔: (*)反应腔内壁经耐腐蚀处理;内壁加热温度≥***℃; (*)样品载物台直径≥*****,兼容*英寸及以下的晶圆和不规则碎片;最高加热温度≥***℃; (*)配置不少于*路的独立的前驱体源入口; (*)配置独立的臭氧源入口; *、真空系统: (*)配置防腐蚀设计的罗茨干泵,抽速≥ *** **/**; (*)反应腔本底真空≤**-* ****;真空漏率≤**-* ****?*/*; (*)配置薄膜电容真空计,分辨率为满量程的*.***%; (*)配置快速响应的自动节流阀,保持工艺过程中腔体内压力稳定; (*)真空管路配置冷阱***** ****; *、前驱体源系统: (*)配置至少*路液体/固体前体源管路及相应的*** **前驱体罐;每路管路配置独立的阀门、***快速脉冲阀和温度传感器; (*)前驱体源管路种类至少为:*路带管路加热(最高***℃)的直抽管路;*路带管路加热(最高***℃)、前驱体罐加热(最高***℃)的直抽管路; (*)配置至少*路惰性气体(**或**)载气管路、连接至每*路前驱体源管路; *(*)***管路的惰性气体(**或**)载气管路须为单独*路; *、臭氧管路: (*)配置独立的臭氧管路,包括臭氧发生器、质量流量控制器***、气体探测器、阀门、控制机箱等。 *(*)臭氧发生量:≥* */*; (*)等离子增强原子层沉积*****反应腔模块(*):沉积氧化铝、氧化铪、氧化钛等氧化物、以及氮氧铝等氮氧化物薄膜。 *、反应腔: (*)反应腔内壁经耐腐蚀处理;内壁加热温度≥***℃; (*)样品载物台(下电极)直径≥*****,兼容*英寸及以下的晶圆和不规则碎片;最高加热温度≥***℃; (*)配置不少于*路的独立的前驱体源入口; *、真空系统: (*)配置防腐蚀设计的罗茨干泵,抽速≥*** **/**; *(*)配置防腐蚀设计的涡轮分子泵,抽速≥*** */*; (*)反应腔本底真空≤**-* ****;真空漏率≤**-* ****?*/*; (*)配置薄膜电容真空计,分辨率为满量程的*.***%; (*)配置快速响应的自动节流阀,保持工艺过程中腔体内压力稳定; (*)真空管路配置冷阱***** ****; *、前驱体源系统: (*)配置至少*路液体/固体前体源管路及相应的*** **前驱体罐;每路管路配置独立的阀门、***快速脉冲阀和温度传感器; (*)前驱体源管路种类至少为:*路带管路加热(最高***℃)的直抽管路;*路带管路加热(最高***℃)、前驱体罐加热(最高***℃)的直抽管路;*路带管路加热(最高***℃)、前驱体罐加热(最高***℃)、并带起泡器*******的起泡器管路; (*)配置至少*路惰性气体(**或**)载气管路、连接至每*路前驱体源管路; (*)配置至少*路独立的气体源管路(**,***);每路气体源管路须配有质量流量计(***)、颗粒过滤器和气体截止阀;对有毒/腐蚀性气体管路(***)须配有旁路******。 *、等离子体源系统: (*)采用真正的远程等离子体方式,等离子体不直接照射于样品、防止对样品表面的损伤(包括离子轰击、紫外辐照所造成的损伤); (*)等离子体源的射频功率≥*** *,频率**.*****; (*)配有自动匹配盒,可通过固定匹配模式或者自动匹配模式稳定地起辉; *(*)配置计算机控制的自动隔离阀(等离子体快门); (*)等离子增强原子层沉积*****反应腔模块(*):沉积氮化铝、氮化钛等氮化物薄膜、铂等金属薄膜。 *、反应腔: (*)反应腔内壁经耐腐蚀处理;内壁加热温度≥***℃; (*)样品载物台(下电极)直径≥*****,兼容*英寸及以下的晶圆和不规则碎片;最高加热温度≥***℃; (*)配置不少于*路的独立的前驱体源入口; *、真空系统: (*)配置防腐蚀设计的罗茨干泵,抽速≥*** **/**; *(*)配置防腐蚀设计的涡轮分子泵,抽速≥*** */*; (*)反应腔本底真空≤**-* ****;真空漏率≤**-* ****?*/*; (*)配置薄膜电容真空计,分辨率为满量程的*.***%; (*)配置快速响应的自动节流阀,保持工艺过程中腔体内压力稳定; (*)真空管路配置冷阱***** ****; *、前驱体源系统: (*)配置至少*路液体/固体前体源管路及相应的*** **前驱体罐;每路管路配置独立的阀门、***快速脉冲阀和温度传感器; (*)前驱体源管路种类至少为:*路带管路加热(最高***℃)的直抽管路;*路带管路加热(最高***℃)、前驱体罐加热(最高***℃)、并带起泡器*******的起泡器管路; (*)配置至少*路惰性气体(**或**)载气管路、连接至每*路前驱体源管路; (*)配置至少*路独立的气体源管路(**,**, **, ***);每路气体源管路须配有质量流量计(***)、颗粒过滤器和气体截止阀;对有毒/腐蚀性气体管路(***)须配有旁路******。 *、等离子体源系统: (*)采用真正的远程等离子体方式,等离子体不直接照射于样品、防止对样品表面的损伤(包括离子轰击、紫外辐照所造成的损伤); (*)等离子体源的射频功率≥*** *,频率**.*****; (*)配有自动匹配盒,可通过固定匹配模式或者自动匹配模式稳定地起辉; *(*)配置计算机控制的自动隔离阀(等离子体快门); (*)转接腔模块: (*)共*个端口;通过闸阀分别与*个反应腔模块、*个预真空室连接; (*)自动机械手,用于不同模块间传送样片; (*)上盖有透明观察窗口; (*)配置单独干泵和真空计,本底真空≤*.* ****,真空漏率≤**-* ****?*/*; (*)预真空室: (*)通过闸阀与转接腔模块连接;配透明上盖; (*)用于手动传送*英寸晶圆或托盘; (*)配置单独干泵和真空计,本底真空≤*.* ****,真空漏率≤**-* ****?*/*; (*)控制系统:系统须自动化操作,软件功能包括但不限于以下部分:权限管理、参数管理、手动控制、实时数据、数据记录、报警管理等。 详见第*章 货物需求*览表及技术规格 预算金额:人民币***万元,项目编号:****
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