序号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 预算金额(元) | 预计采购时间(填写到月) | 备注 |
* | 硅基异质集成芯片技术创新示范平台 | 名称:等离子体化学气相沉积系统 数量:*套 技术要求:*、适用于*寸晶圆沉积参杂*氧化硅薄膜;*、膜厚均匀性(@*微米)片内<*%,片间<*%;*、退火后薄膜粗糙度<±**纳米;*、退火后折射率均匀性(@*微米)片内<±*.****,片见<±*.****;*、*次工艺大于*.*微米颗粒增加数量<**颗/片;*、薄膜应力:*次性生长**微米,退火后没有膜裂现象;*、确保以上指标的沉积速率>***纳米每分钟;*、设备保修周期内稳定运行时长>**% | ******* | ****年**月 | |
* | 硅基异质集成芯片技术创新示范平台 | 名称:电感耦合等离子体刻蚀系统 数量:*套 设备*技术要求:*、适用于*寸晶圆刻蚀氧化硅/氮化硅膜层;*、利用金属掩模刻蚀氧化硅/氮化硅膜层,刻蚀选择比>**;*、刻蚀均匀性,片内<*%,片间<*%;*、** ****<*.*微米(*.*微米开口,*微米深度);*、**均匀性,片内<*%,片间<*%;*、侧壁陡直度在**度~**度;*、*.*微米开口刻蚀能力>*微米深度;*、侧壁粗超度(@*微米)<****;*、确保以上指标的刻蚀速率>***纳米每分钟;**、设备保修周期内稳定运行时长>**%; 设备*技术要求:相比设备技术要求增加深硅刻蚀能力,刻蚀选择比>**;其他指标同设备*; | ******* | ****年**月 | |
* | 硅基异质集成芯片技术创新示范平台 | 名称:低压化学气相沉积系统 数量:*套 技术要求:*、适用于*寸晶圆沉积氧化硅/氮化硅膜层;*、采用双炉管设计,炉管*沉积氧化硅膜层,炉管*采用****源沉积氮化硅膜层;*、膜厚均匀性,片内<*%,片间<*%,批间<*%;*、温度稳定性<*摄氏度/**小时;*、恒温区温度控制精度<±*摄氏度;*、气体流量设定精度<*%;*、确保以上指标的沉积速率>*纳米每分钟;**、设备保修周期内稳定运行时长>**%; | ******* | ****年**月 | |
* | 硅基异质集成芯片技术创新示范平台 | 名称:物理气相沉积系统 数量:*套 技术要求:*、适用*寸晶圆溅射金属薄膜;*、样品厚度限制>***;*、主要靶材**/**/**/****,采用单腔多靶型腔室,靶材采用小型靶材;*、***以上直流溅射电源,****射频溅射电源;*、工艺腔室真空优于 **-***;*、片内均匀性优于±*%;*、片间均匀性优于±*%;*、重复性优于±*%;*、设备保修周期内稳定运行时长>**%; | ******* | ****年**月 | |
* | 硅基异质集成芯片技术创新示范平台 | 名称:全自动匀胶显影系统 数量:*套 技术要求:*、适用于*寸晶圆沉积参杂氧化硅薄膜;*、光刻胶厚度均匀性(@*微米)片内<*%,片间<*%;*、显影均匀性(@*微米)片内<*%,片间<*%;*、匀胶单元*个,显影单元*个;*、光刻胶*路,****路,显影液*路,***定影*路;*、热板*个,冷板*个,****单元*个;*、配备***自动清洗、胶嘴自动清洗、自动对中等辅助功能;*、配备机器人自动传送系统;*、设备保修周期内稳定运行时长>**% | ******* | ****年**月 | |
* | 硅基异质集成芯片技术创新示范平台 | 名称:退火炉 数量:*套 技术要求:*、适用于*寸晶圆进行退火工艺;*、最大工作温度>****摄氏度;*、炉管置式:立式;*、温度控制精度<±*摄氏度;*、升温速率>*摄氏度每分钟;*、设备保修周期内稳定运行时长>**% | ******* | ****年**月 | |
* | 硅基异质集成芯片技术创新示范平台 | 名称:甩干机 数量:*套 技术要求:*、采用单工艺腔设计,适用*寸晶圆进行甩干工艺;*、采用***或工控机控制;*、带原厂腔体自净工艺;*、带水质和氮气检测系统;*、清洗颗粒度标准:大于*.*微米<**颗;*、设备保修周期内稳定运行时长>**% | ****** | ****年**月 | |
* | 硅基异质集成芯片技术创新示范平台 | 名称:清洗机 数量:*套 技术要求:*、适用*次性清洗**片*寸晶圆;*、*台设备配置:设备*,纯水槽+操作台面;设备*,纯水槽+有机槽+操作台面,带回收;设备*,*个酸液槽+纯水槽,带回收;设备*,*个碱液槽+纯水槽,带回收;设备*,炉管清洗,带回收和炉管放置柜;*、清洗机设备均采用***控制;*、设备保修周期内稳定运行时长>**% | ******* | ****年**月 | |
* | 硅基异质集成芯片技术创新示范平台 | 名称:棱镜耦合仪 数量:*套 技术要求:*、*寸晶圆膜厚和折射率测试;*、折射率测试范围:*~*.*;*、折射率测试精度<±*.****;*、折射率分辨率≤*.*****;*、膜厚测试范围:*.*微米~***微米;*、膜厚精度≤±(*.*%+*纳米);*、膜厚分辨率≤*.*%;*、可测试膜层数≥*层;*、测试波长:***纳米、****纳米、****纳米;**、配套稳定品牌**、显示器、测试软件;**、设备保修周期内稳定运行时长>**% | ****** | ****年**月 | |
** | 硅基异质集成芯片技术创新示范平台 | 名称:台阶仪 数量:*套 技术要求:*、适用*寸晶圆测试图形台阶;*、台阶高度重复性*σ* ***台阶上;*、扫描长度>****;*、垂直测量范围>***;*、原厂***带测试软件主机和显示器;*、配备*微米探针;*、设备保修周期内稳定运行时长>**% | ****** | ****年**月 | |
** | 硅基异质集成芯片技术创新示范平台 | 名称:扫描电子显微系统 数量:*套 技术要求:*、标称放大倍数***~*******以上;*、配备*次电子成像,预留***接口;*、带主机、显示器和原厂测试软件;*、载物台****×****以上;*、配备*轴马达;*、配套喷金仪及靶材*套;*、设备保修周期内稳定运行时长>**% | ****** | ****年**月 | |
** | 硅基异质集成芯片技术创新示范平台 | 名称:金相显微系统 数量:*套 技术要求:*、适用*寸晶圆进行观察;*、标准光学显微系统,配置*×,**×,**×,**×,***×原厂****镜头;*、配置下光源;*、配置活动可调节目镜;*、原厂***带主机显示器和测量软件,预留偏光/干涉接口;*、设备保修周期内稳定运行时长>**% | ****** | ****年**月 | |
** | 硅基异质集成芯片技术创新示范平台 | 名称:无尘干燥箱 数量:*套 技术要求:*、内部空间***********以上,双隔层;*、循环风过滤;*、***控制;*、温度室温~***度可调,控温进度±*度;*、设备保修周期内稳定运行时长>**% | ***** | ****年**月 | |
** | 硅基异质集成芯片技术创新示范平台 | 名称:光学平台 数量:*批(预计*台) 技术要求:***********,氮气/***充压防震 | ***** | ****年**月 | |
** | 硅基异质集成芯片技术创新示范平台 | 名称:氮气柜 数量:*批(预计*台) 技术要求:*****,*层隔板,充氮干燥,湿度控制<**%*****,*层隔板,充氮干燥,湿度控制<**% | ***** | ****年**月 | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。