天津大学 - 竞价公告 (CB100562024000607)-比比招标网

*.采用平面磁控溅射靶头进行靶材溅射，以确保工作过程样品不会发生热损伤； *. 溅射电流：*-*****连续可调，最小步长为***； *. 溅射时长：*-****连续可调，最小步长为** *. 真空室：采用高透光性的高硅硼玻璃，尺寸约为φ***×*****； *. 样品台：可自转的不锈钢样品台，直径为φ*****，转速*-*****可调； *. 靶材参数：系统提供金、铂、银、铜对于空气和氩气的工作参数，可*键调用。同时提供*种自定义靶材，用户可根据自己需求设定工作参数； *. 预溅射：具有全自动控制的预溅射挡板，确保工作过程稳定可靠； *. *键操作：系统可自动完成抽气、充气、参数调整、预溅射、溅射镀膜等工作过程；溅射完成后，关闭真空泵，系统自动充气使真空室内外压力平衡； *. 具备实时曲线显示溅射电流和真空度功能非常方便用户了解系统工作状态；

按行业标准提供服务（提供本地化安装调试及售后服务）

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